RH真空脫氣爐最初只是作為脫氣裝置，當時的耐火材料內襯主要采用粘土磚高鋁磚。現(xiàn)在，RH爐功能已經擴展了到了吹氧和噴粉，內襯耐火材料的適用條件變得更為苛刻，因此選用高級耐火材料。特別是隨著高級特種鋼的產量增加，正在大力推廣增大環(huán)流量，大量吹入氣體的方法，以進行超低碳鋼的穩(wěn)定生產和高速處理。加大環(huán)流量使耐火材料內襯磨損增加；增加冷風吹入量造成了高溫剝落；鋼包熔渣吸入量增加又加大了結構剝落和侵蝕，所有這些因素都將導致內襯材料的損毀加劇。因此，現(xiàn)在的RH/RH-OB內襯以直接結合鎂鉻磚為主流，而在RH/RH-OB內襯吹氧口周圍使用半結合或再結合鎂鉻磚，一部分使用鎂碳磚。
用于RH裝置頂部和上部槽內的耐火材料，由于不與鋼水和熔渣直接接觸，與下部相比一般損毀都較少。中間部分由于接觸鋼水和熔渣侵蝕或者由于高溫剝落，使耐火內襯遭到損毀。下部槽包括浸漬管的耐火內襯是RH裝置的高腐蝕區(qū)，它往往決定著RH爐的使用壽命，因此下部槽的內襯應選用高溫燒成直接結合鎂鉻磚。爐身下部損傷最嚴重的部位是環(huán)流管，因為襯里的結構限制了它的厚度，而且復雜形狀的耐火制品還需經兩次加熱，所以沒有一種耐火材料有足夠的使用壽命。此外，在RH-OB爐中，OB對耐火材料的使用也有重要的影響，在采用上部噴槍法時，耐材受到吹入的氧氣與鋼水中鐵元素生成的氧化物及高溫反應氣體侵蝕，尤其是生成氧化物會迅速地侵蝕耐火材料工作面，因此需選用Cr2O3含量高的MgO-Cr2O3磚才會有較高的使用壽命，而暴露在高溫氣體下部選用Cr2O3含量低的MgO-Cr2O3磚會有較好綜合使用性能。
1．RH爐用鎂鉻磚
高溫燒成的鎂鉻磚系耐火材料(如直接結合、再結合、半再結合鎂鉻磚)由于具有抗低堿度渣蝕能力強的優(yōu)點，已經廣泛應用于精煉爐襯上。鎂鉻系磚有許多不同的品種，磚的生產工藝、組織結構、性能差異也很大。鎂鉻系磚按按Cr2O3含量可分為鎂鉻磚(Cr2O3含量為5~20%)、鉻鎂磚(Cr2O3含量為20~35%)和鉻磚(Cr2O3含量為大于35%)，按生產工藝分為燒結磚和熔鑄磚等。
由于鎂鉻磚的品種非常繁多，有文獻對其進行了歸類總結：
(1)硅酸鹽結合鎂鉻磚(普通燒成鎂鉻磚)。這種磚是由雜質(SiO2與CaO)含量較高的普鉻礦與制磚鎂砂制做成，燒成溫度在1550℃左右。結構特點是：耐火物晶粒之間是由硅酸鹽結合的，顯氣孔率較高，抗爐渣侵蝕性較差，高溫體積穩(wěn)定性差。
(2)預反應鎂鉻磚。將鎂砂(輕燒鎂粉)與鉻礦共磨壓坯在窯內燒成，用合成的鎂鉻砂作為原料再制磚，形成“預反應鎂鉻磚”。預反應鎂鉻磚屬硅酸鹽結合鎂鉻磚的改進型。
(3)直接結合鎂鉻磚。直接結合鎂鉻耐火材料是由雜質含量低的鉻精礦與較純鎂砂制作，燒成溫度在1700℃以上。其結構特點是：耐火物晶粒之間多呈直接接觸，磚中方鎂石(固溶體)-方鎂石(固溶體)與方鎂石(固溶體)-尖晶石(固溶體)的直接結合程度高，因此其高溫性能、抗爐渣侵蝕性好，高溫體積穩(wěn)定性都較普通鎂鉻磚好。
(4)熔粒再結合鎂鉻磚(電溶再結合鎂鉻)。用電熔方法使鎂砂與鉻礦(輕燒鎂粉或菱鎂石與鉻礦)充分均勻地反應，合成結構更理想的方鎂石固溶體和尖晶石固溶體鎂鉻原料，再結合鎂鉻磚就是用此原料制磚稱為熔粒再結合鎂鉻磚。由于制磚原料較純，都需要在1750℃以上高溫或超高溫下燒成。其顯微結構特征是尖晶石等組元分布均勻、氣孔率低、耐火物晶粒之間為直接接觸、耐壓強度高、抗侵蝕性好、高溫強度高等，但缺點是熱震穩(wěn)定性較差。
(5)半再結合鎂鉻磚。以人工合成原料做顆粒，以鉻精礦與鎂砂為細粉的鎂鉻磚都應稱為半再結合鎂鉻磚。國內將由電熔鎂鉻料作顆粒，而以共燒結料為細粉或以鉻精礦與鎂砂粉為混合細粉，制作的鎂鉻磚都稱為半再結合鎂鉻磚。其燒成溫度在1700℃以上，磚內耐火物晶粒之間也是以直接結合為主，優(yōu)點是抗熱震性較好，抗侵蝕、抗沖刷也不錯。
(6)共燒結鎂鉻磚(又稱全合成鎂鉻)。用百分之百的燒結合成鎂鉻砂為制磚原料，再經過高溫燒成所生產的鎂鉻磚就是共燒結鎂鉻。其特點是抗侵蝕性好，高溫體積穩(wěn)定性好等。
(7)不燒鎂鉻磚(或稱化學結合鎂鉻)?；瘜W結合不燒鎂鉻磚，一般采用鎂砂與鉻礦為制磚原料，以聚磷酸鈉或六偏磷酸鈉或水玻璃為結合劑壓制的鎂鉻磚。不需高溫燒成，只經200℃左右溫度烘烤。由于未經高溫燒成，鎂砂會發(fā)生水化，不能長期存放。
(8)熔鑄鎂鉻制品磚。采用鎂砂、鉻礦為主要原料，加入少量添加劑，經混合、壓坯與素燒，破碎成塊，進電弧爐熔融，再注入模內、退火，生產成母磚，母磚經切、磨等冷加工制成各種特定形狀的制品。熔鑄鎂鉻磚的結構特點是成分分布均勻，耐火物晶粒之間主要為直接接觸，硅酸鹽以孤島狀存在，磚抗熔體熔蝕、滲透與沖刷特別好，但熱震穩(wěn)定性差。
——本文摘自“制鋼參考網”
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